https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/448649
標題: | Novel diamond conditioner dressing characteristics of CMP polishing pad | 作者: | Tsai, M.-Y. Chen, S.-T. Liao, Y.-S. Sung, J. YUNN-SHIUAN LIAO |
公開日期: | 2009 | 卷: | 49 | 期: | 9 | 起(迄)頁: | 722-729 | 來源出版物: | International Journal of Machine Tools and Manufacture | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/448649 | DOI: | 10.1016/j.ijmachtools.2009.03.001 |
顯示於: | 機械工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。