https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451903
標題: | The effect of inductively-coupled-plasma reactive ion etching power on the etching rate and the surface roughness of a sapphire substrate | 作者: | Chang, C.-M. Shiao, M.-H. Chiang, D. Yang, C.-T. Cheng, C.-T. Hsueh, W.-J. WEN-JENG HSUEH |
公開日期: | 2014 | 卷: | 14 | 期: | 10 | 起(迄)頁: | 8074-8078 | 來源出版物: | Journal of Nanoscience and Nanotechnology | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451903 | DOI: | 10.1166/jnn.2014.9383 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。