https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491246
標題: | Nanopatterning with 248 nm photolithography by photostabilizing bilayer photoresists | 作者: | Tsai, F.-Y. Jhuo, S.-J. Lee, J.-T. FENG-YU TSAI |
公開日期: | 2007 | 卷: | 25 | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 426-429 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491246 | DOI: | 10.1116/1.2713404 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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