https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491390
標題: | Patterning of nanoscale Si lines using e-beam lithography and high-selectivity plasma etching | 作者: | Hou, F.-J. Lin, H.-C. Chen, H.-L. Liu, J.-T. Pan, C.-T. Ko, F.-H. Wang, M.-F. Huang, T.-Y. HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 2002 | 起(迄)頁: | 120-121 | 來源出版物: | 2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002 | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491390 | DOI: | 10.1109/IMNC.2002.1178573 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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