https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491409
標題: | Characteristics of plasma enhanced chemical vapor deposition-grown SiN[sub x] films prepared for deep ultraviolet attenuated phase-shifting masks | 作者: | Chen, H. L. L. A. Wang LON A. WANG HSUEN-LI CHEN |
公開日期: | 1998 | 卷: | 16 | 期: | 6 | 起(迄)頁: | 3612 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491409 | ISSN: | 0734211X | DOI: | 10.1116/1.590314 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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