https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491591
標題: | Characteristics of ALD high-�e HfAlO<inf>x</inf> nanocrystals in memory capacitors annealed at high temperatures | 作者: | Li, W.C. Banerjee, W. Maikap, S. Yang, J.R. JER-REN YANG |
公開日期: | 2010 | 卷: | 33 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | 347-353 | 來源出版物: | ECS Transactions | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491591 | DOI: | 10.1149/1.3481623 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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