https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491620
標題: | Highly thermally stable and reproducible of ALD RuO<inf>2</inf> nanocrystal floating gate memory devices with large memory window and good retention | 作者: | Maikap, S. Banerjee, W. Tzeng, P.-J. Wang, T.-Y. Lin, C.H. Tien, T.C. Lee, L.S. Yang, J.-R. Kao, M.-J. Tsai, M.-J. JER-REN YANG |
公開日期: | 2008 | 起(迄)頁: | 50-51 | 來源出版物: | International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications, Proceedings | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491620 | DOI: | 10.1109/VTSA.2008.4530793 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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