https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491628
標題: | Charge storage characteristics of atomic layer deposited RuO<inf>x</inf> nanocrystals | 作者: | Maikap, S. Wang, T.Y. Tzeng, P.J. Lin, C.H. Lee, L.S. Yang, J.R. Tsai, M.J. JER-REN YANG |
公開日期: | 2007 | 卷: | 90 | 期: | 25 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491628 | DOI: | 10.1063/1.2749857 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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