https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491947
標題: | Comparison of microstructural and optoelectronic properties of NiO:Cu thin films deposited by ion-beam assisted rf sputtering in different gas atmospheres | 作者: | Wen, C.-K. Xin, Y.-Q. Chen, S.-C. Chuang, T.-H. Chen, P.-J. Sun, H. TUNG-HAN CHUANG |
公開日期: | 2019 | 卷: | 677 | 起(迄)頁: | 103-108 | 來源出版物: | Thin Solid Films | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/491947 | DOI: | 10.1016/j.tsf.2019.03.018 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。