https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/497266
標題: | Study on 193nm immersion interference lithography | 作者: | Wang, L.A. Chang, W.C. Chi, K.Y. Liu, S.K. Lee, C.D. LON A. WANG |
公開日期: | 2005 | 卷: | 5720 | 起(迄)頁: | 94-108 | 來源出版物: | Progress in Biomedical Optics and Imaging - Proceedings of SPIE | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/497266 | DOI: | 10.1117/12.600795 |
顯示於: | 電機工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。