https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/497268
標題: | Phase masks fabricated by interferometric lithography for working in 248 nm wavelength | 作者: | Cheng, W.C. Wang, L.A. LON A. WANG |
公開日期: | 2003 | 卷: | 67-68 | 起(迄)頁: | 63-69 | 來源出版物: | Microelectronic Engineering | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/497268 | DOI: | 10.1016/S0167-9317(03)00060-1 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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