https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/498460
標題: | A High I<inf>ON</inf>/I<inf>OFF</inf> Ratio of 6 × 105 in Germanium-Tin n+/p Junctions by Phosphorus Ion Implantation | 作者: | Liu, J.-Y. Chuang, Y. Liu, C.-Y. Luo, G.-L. Li, J.-Y. JIUN-YUN LI |
公開日期: | 2019 | 起(迄)頁: | 142-144 | 來源出版物: | 2019 Electron Devices Technology and Manufacturing Conference, EDTM 2019 | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/498460 | DOI: | 10.1109/EDTM.2019.8731032 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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