https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/498862
標題: | The retardation of aluminum-amorphous silicon interaction by phosphine plasma treatment | 作者: | Wei, J.-H. Lee, S.-C. SI-CHEN LEE |
公開日期: | 1998 | 卷: | 16 | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 587-589 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/498862 | DOI: | 10.1116/1.581074 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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