https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/500117
標題: | Hydrogen-free PECVD growth of few-layer graphene on an ultra-thin nickel film at the threshold dissolution temperature | 作者: | Peng, K.-J. Wu, C.-L. Lin, Y.-H. Liu, Y.-J. Tsai, D.-P. Pai, Y.-H. GONG-RU LIN |
公開日期: | 2013 | 卷: | 1 | 期: | 24 | 起(迄)頁: | 3862-3870 | 來源出版物: | Journal of Materials Chemistry C | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/500117 | DOI: | 10.1039/c3tc30332b |
顯示於: | 電機工程學系 |
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