https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/501074
標題: | Efficient three-dimensional resist profile-driven source mask optimization optical proximity correction based on Abbe-principal component analysis and Sylvester equation | 作者: | Lin, P.-C. Yu, C.-C. PEI-CHUN LIN CHUNG-PING CHEN |
公開日期: | 2015 | 卷: | 14 | 期: | 1 | 來源出版物: | Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/501074 | DOI: | 10.1117/1.JMM.14.1.011006 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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