https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/155863
標題: | Thermal stability of Si/Si1 – x – yGexCy/Si quantum wells grown by rapid thermal chemical vapor deposition | 作者: | Liu, C. W. Tseng, Y. D. Chern, M. Y. Chang, C. L. Sturm, J. C. LiuCW |
公開日期: | 1999 | 卷: | 85 | 期: | 4 | 起(迄)頁: | - | 來源出版物: | Journal of Applied Physics | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/148144 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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