https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/296937
標題: | Improvement in ultrathin rapid thermal oxide uniformity by the control of gas flow | 作者: | Hong, C.-C. Yen, Y.-R. Su, J.-L. Hwu, J.-G. JENN-GWO HWU |
公開日期: | 2002 | 卷: | 15 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 102-107 | 來源出版物: | IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0036474644&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/296937 |
DOI: | 10.1109/66.983449 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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