https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/298222
標題: | Effects of low-temperature Si buffer layer thickness on the growth of SiGe by molecular beam epitaxy | 作者: | CHIEH-HSIUNG KUAN Lee, S.W. Chen, H.C. Chen, L.J. Peng, Y.H. Kuan, C.H. Cheng, H.H. CHIEH-HSIUNG KUAN |
公開日期: | 2002 | 卷: | 92 | 期: | 11 | 起(迄)頁: | 6880-6885 | 來源出版物: | Journal of Applied Physics | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0036904201&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/298222 |
DOI: | 10.1063/1.1516842 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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