https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/309365
標題: | Post deposition annealing effects on the reliability of ALD HfO<inf>2</inf> films on strained-Si<inf>0.8</inf>Ge<inf>0.2</inf> layers | 作者: | CHEE-WEE LIU Tzeng, P.J. Maikap, S. Lai, W.Z. Liang, C.S. Chen, P.S. Lee, L.S. CHEE-WEE LIU |
公開日期: | 2004 | 起(迄)頁: | 29-32 | 來源出版物: | International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits, IPFA | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-14844320813&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/309365 |
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