https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/358008
標題: | Influence of the thickness variation of the SiOx layer on the Si quantum dots based MOSLED | 作者: | Lai, B.-H. Cheng, C.-H. GONG-RU LIN |
公開日期: | 2010 | 起(迄)頁: | 56-57 | 來源出版物: | 2010 Asia Communications and Photonics Conference and Exhibition | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-79851497080&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/358008 |
DOI: | 10.1109/ACP.2010.5682837 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
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