https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/372472
標題: | Thermally induced morphology evolution of pit-patterned Si substrate and its effect on nucleation properties of Ge dots | 作者: | CHIEH-HSIUNG KUAN Chen, H.-M. Kuan, C.-H. Suen, Y.-W. Luo, G.-L. Lai, Y.-P. Wang, F.-M. Chen, S.-T. CHIEH-HSIUNG KUAN |
公開日期: | 2012 | 卷: | 23 | 期: | 1 | 來源出版物: | Nanotechnology | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-83455211766&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/372472 |
DOI: | 10.1088/0957-4484/23/1/015303 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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