https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/498749
標題: | Oxidation of silicon nitride prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition at low temperature | 作者: | Liao, W.-S. Lin, C.-H. Lee, S.-C. SI-CHEN LEE |
公開日期: | 1994 | 卷: | 65 | 期: | 17 | 起(迄)頁: | 2229-2231 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/498749 | DOI: | 10.1063/1.112772 |
顯示於: | 電機工程學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。