https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/546699
標題: | CVD growth of large-area InS atomic layers and device applications | 作者: | Tu, C.-L. Lin, K.-I. Pu, J. Chung, T.-F. Hsiao, C.-N. Huang, A.-C. Yang, J.-R. Takenobu, T. Chen, C.-H. JER-REN YANG |
公開日期: | 2020 | 卷: | 12 | 期: | 17 | 起(迄)頁: | 9366-9374 | 來源出版物: | Nanoscale | URI: | https://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-85084379603&partnerID=40&md5=236b4638ae3c611cc7b81830ead1572a https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/546699 |
DOI: | 10.1039/d0nr01104e |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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