https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/64349
標題: | 深次微米半導體化學機械研磨技術之研究─子計畫二:化學機械研磨液穩定性之探討(2/2) Stability of Slurry in Chemical Mechanical Polishing(2/2) |
作者: | 徐治平 | 關鍵字: | 氧化鐵粒子;橢球;操作條件;臨界凝聚濃度;Scholze-Hardy法則;Ferric oxide particles;spheroids;effect of operation conditions;critical coagulation concentration;Schulze-Hardy rule | 公開日期: | 2001 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/9259 | 其他識別: | 892214E002049 | Rights: | 國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 |
顯示於: | 化學工程學系 |
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