https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/155901
標題: | Feasibility of utilizing hexamethyldisiloxane film as a bottom antireflective coating for 157 nm lithography | 作者: | Lin, C. H. Wang, L. A. |
公開日期: | 2001 | 卷: | Vacuum | 期: | 6 | 起(迄)頁: | 2357-2361 | 來源出版物: | Journal of | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/148183 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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