https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/329948
標題: | Preparation of low-temperature fluorinated oxides by anodic oxidation in dilute hydrofluosilicic acid (H2SiF6) solution | 作者: | JENN-GWO HWU | 公開日期: | 1997 | 卷: | 15 | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 369-373 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0031496818&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/329948 |
DOI: | 10.1116/1.580493 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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