https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/347698
標題: | Effect of tensile stress on mos capacitors with ultra-thin gate oxide | 作者: | Chen, H.-L. Lee, C.-J. Hwu, J.-G. JENN-GWO HWU |
公開日期: | 2009 | 卷: | 16 | 期: | 4 | 起(迄)頁: | 283-287 | 來源出版物: | International Journal of Electrical Engineering | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-70349616711&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/347698 |
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