https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/436215
標題: | Thermal stability of amorphous-like WNx/W bilayered diffusion barrier for chemical vapor deposited-tungsten/p(+)-Si contact system | 作者: | Chang, K. M. Deng, I. C. Yeh, T. H. Lain, K. D. CHAO-MING FU |
公開日期: | 1999 | 卷: | 38 | 期: | 3A | 起(迄)頁: | 1343-1351 | 來源出版物: | Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/436215 | ISSN: | 0021-4922 | DOI: | 10.1143/JJAP.38.1343 |
顯示於: | 物理學系 |
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