https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447976
標題: | Strain engineering of nanoscale Si MOS devices | 作者: | Huang, J. Chang, S.-T. Hsieh, B.-F. Liao, M.-H. Wang, W.-C. Lee, C.-C. MING-HAN LIAO |
公開日期: | 2010 | 卷: | 518 | 期: | 6 SUPPL. 1 | 來源出版物: | Thin Solid Films | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447976 | DOI: | 10.1016/j.tsf.2009.10.098 |
顯示於: | 機械工程學系 |
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