https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/63247
Title: | 深次微米半導體化學機械研磨技術研究─子計畫七:低介電常數高分子介電膜(HSQ,MSQ及PAE-2)之化學機械研磨特性研究 | Authors: | 陳文章 | Issue Date: | 1999 | Publisher: | 臺北市:國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/9009 | Other Identifiers: | 20060725115834718320 | Rights: | 國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 |
Appears in Collections: | 化學工程學系 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.