https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/63247
標題: | 深次微米半導體化學機械研磨技術研究─子計畫七:低介電常數高分子介電膜(HSQ,MSQ及PAE-2)之化學機械研磨特性研究 | 作者: | 陳文章 | 公開日期: | 1999 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/9009 | 其他識別: | 20060725115834718320 | Rights: | 國立臺灣大學化學工程學系暨研究所 |
顯示於: | 化學工程學系 |
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