https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/73440
標題: | Band offsets and charge storage characteristics of atomic layer deposited high-k HfO2/TiO2 multilayers | 作者: | Maikap, S. Wang, T.Y. Tzeng, P.J. Lin, C.H. Tien, T. C. Lee, L. S. Yang, J. R. Tsai, M.J. |
公開日期: | 2007 | 卷: | 90 | 期: | 262901 | 起(迄)頁: | - | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/93245 |
顯示於: | 材料科學與工程學系 |
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