https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/387137
標題: | Gate-bias stress stability of P-type SnO thin-film transistors fabricated by RF-sputtering | 作者: | Chiu, I.-C. Cheng, I.-C. I-CHUN CHENG |
公開日期: | 2014 | 卷: | 35 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 90-92 | 來源出版物: | IEEE Electron Device Letters | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84891529953&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/387137 |
DOI: | 10.1109/LED.2013.2291896 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
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